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想必大家對于專利申請中需要注意的地方也有了一定的了解。今天，我們繼續(xù)來講講專利申請中的其他誤區(qū)。

誤區(qū)六，技術方案交待不清楚。很多人提交的專利申請文件非常簡單，有的甚至只有幾句話，技術方案完全沒有交待清楚，這給專利代理人制作正式專利申請文件帶來很大困難。在要求發(fā)明人提供更多的技術方案時，他們會以技術保密為由回避。這些發(fā)明人其實就是沒有把握好保密與公開的度。他們過度地要求保密，害怕多透露一點技術信息，而恰恰是這種“過度”忽視了技術方案交待不清楚，公開不充分的問題。

誤區(qū)七，專利申請前不做任何檢索。有些發(fā)明人提交的專利申請文件沒有做查新檢索，對技術方案的新穎性如何不確定。甚至根本不知道其技術方案有沒有公開過或公開使用過，這也是一個非常普遍的現象。全世界范圍內的任何文獻都可影響技術方案的新穎性。

但在使用方面，只有國內的使用才影響技術方案的新穎性。如果他人已經就某一技術方案申請過專利或者在相關文獻中公開，你沒有做檢索也去就這一技術方案申請專利，那只能是白白浪費時間、金錢和精力了。

誤區(qū)八，先發(fā)表論文或成果鑒定再申請專利。有些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定，而沒有想到先申請專利保護。由于發(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開技術內容，使專利申請失去新穎性而得不到保護。

誤區(qū)九，對專利缺乏有效的管理。有些企業(yè)申請了很多專利，但無專人管理。專利文件之間有的互相沖突，有的已無市場價值還在交納年費。有的專利權已經遭受侵犯但企業(yè)管理者對專利特征不了解，不能及時提起訴訟。還有的則是專利文書撰寫的申請質量差，不能起到應該有的保護作用。

誤區(qū)十，缺乏長遠的專利戰(zhàn)略規(guī)劃。有計劃地實施專利戰(zhàn)略對企業(yè)來說非常重要，可以避免時間和精力的浪費。一些企業(yè)毫無目的的申請大量專利，結果導致授權率低，并產生大量的垃圾專利，浪費時間和精力。一個企業(yè)應該對自己行業(yè)內的基本專利狀況及外圍專利狀況有十分明確的認識。從而找到技術突破口，排除他人專利障礙，確立自己的專利優(yōu)勢，贏得市場競爭。

總的來說，專利無論是對于企業(yè)還是個人都是非常重要的，一定要注意關于專利的這些誤區(qū)，以防止產生不必要的麻煩。企業(yè)一定要對自己的商標、專利、知識產權等進行一個系統的分類并做好管理，同時重視知識產權的保護。