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專利申請容易產生的誤區(qū)，專利申請是獲得專利權的必須程序。專利權的獲得，要由申請人向國家專利機關提出申請，經國家專利機關批準并頒發(fā)證書。那么專利申請容易產生的誤區(qū)有哪些?

專利申請容易產生的誤區(qū)

專利申請容易產生的誤區(qū)一、試驗完成后再申請專利

很多研發(fā)人員覺得，我的研發(fā)成果還在實驗階段，這是申請專利為時過早，等產品上市后再申請專利更合適。殊不知，這時已經晚了，即使你僥幸獲得授權，專利也處在不穩(wěn)定狀態(tài)之中。

專利申請的基礎不是已經在市場上存在的產品，也不一定是已經成型的產品。因此，只要有了切實可行的想法，就可以著手申請文件的撰寫了。

專利申請容易產生的誤區(qū)二、產品專利申請后一勞永逸

有部分發(fā)明人認為申請了一項專利后，就可“高枕無憂”，從而忽視了后期的繼續(xù)研發(fā)工作，即使開發(fā)出了新產品或有了新改進，也不再申請專利。

專利申請容易產生的誤區(qū)三、一項成果只能申請一類專利

有部分發(fā)明人認為一項技術成果一次只能申請一類專利，即只能申請發(fā)明專利或只能申請實用新型專利或者只能申請外觀設計專利。

并不是，我國專利法規(guī)定的專利類型有三類：發(fā)明專利、實用新型專利及外觀設計專利，一項產品發(fā)明可同時申請多種專利，技術方案也可以同時申請實用新型和發(fā)明專利。

專利申請容易產生的誤區(qū)四、有專利證書就是有效的專利權

在我國，國家知識產權局對實用新型和外觀設計專利不進行實質審查，即使在你申請之前已經有人就相同的技術方案申請過非常類似的專利，你的申請仍可能會被批準。如果沒有人提出異議，你的專利權會維持下去。

專利申請容易產生的誤區(qū)五、技術方面遮遮掩掩

如果一件專利申請被審查員以技術方案公開不充分為由而發(fā)出審查意見通知書，則這件專利申請有98%的可能被駁回。

專利申請容易產生的誤區(qū)六、先發(fā)論文再申請專利

有些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定，而沒有想到先申請專利保護。因為發(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開技術內容，使專利申請失去新穎性而得不到保護。