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專利申請容易產(chǎn)生的誤區(qū)，專利申請是獲得專利權(quán)的必須程序。專利權(quán)的獲得，要由申請人向國家專利機關(guān)提出申請，經(jīng)國家專利機關(guān)批準并頒發(fā)證書。那么專利申請容易產(chǎn)生的誤區(qū)有哪些?

專利申請容易產(chǎn)生的誤區(qū)

專利申請容易產(chǎn)生的誤區(qū)一、試驗完成后再申請專利

很多研發(fā)人員覺得，我的研發(fā)成果還在實驗階段，這是申請專利為時過早，等產(chǎn)品上市后再申請專利更合適。殊不知，這時已經(jīng)晚了，即使你僥幸獲得授權(quán)，專利也處在不穩(wěn)定狀態(tài)之中。

專利申請的基礎(chǔ)不是已經(jīng)在市場上存在的產(chǎn)品，也不一定是已經(jīng)成型的產(chǎn)品。因此，只要有了切實可行的想法，就可以著手申請文件的撰寫了。

專利申請容易產(chǎn)生的誤區(qū)二、產(chǎn)品專利申請后一勞永逸

有部分發(fā)明人認為申請了一項專利后，就可“高枕無憂”，從而忽視了后期的繼續(xù)研發(fā)工作，即使開發(fā)出了新產(chǎn)品或有了新改進，也不再申請專利。

專利申請容易產(chǎn)生的誤區(qū)三、一項成果只能申請一類專利

有部分發(fā)明人認為一項技術(shù)成果一次只能申請一類專利，即只能申請發(fā)明專利或只能申請實用新型專利或者只能申請外觀設(shè)計專利。

并不是，我國專利法規(guī)定的專利類型有三類：發(fā)明專利、實用新型專利及外觀設(shè)計專利，一項產(chǎn)品發(fā)明可同時申請多種專利，技術(shù)方案也可以同時申請實用新型和發(fā)明專利。

專利申請容易產(chǎn)生的誤區(qū)四、有專利證書就是有效的專利權(quán)

在我國，國家知識產(chǎn)權(quán)局對實用新型和外觀設(shè)計專利不進行實質(zhì)審查，即使在你申請之前已經(jīng)有人就相同的技術(shù)方案申請過非常類似的專利，你的申請仍可能會被批準。如果沒有人提出異議，你的專利權(quán)會維持下去。

專利申請容易產(chǎn)生的誤區(qū)五、技術(shù)方面遮遮掩掩

如果一件專利申請被審查員以技術(shù)方案公開不充分為由而發(fā)出審查意見通知書，則這件專利申請有98%的可能被駁回。

專利申請容易產(chǎn)生的誤區(qū)六、先發(fā)論文再申請專利

有些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定，而沒有想到先申請專利保護。因為發(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開技術(shù)內(nèi)容，使專利申請失去新穎性而得不到保護。